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纯水设备制造的水是纯度*的水。集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。
超纯水：既将水中的导电介质几乎*去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。
超纯水,是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm
纯水设备是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术的制水设备，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会析出人体中很多离子。
系统四周应留有足够空间用以连接水管、电源和更换耗材。
机器请安装在靠近水源、电源和水槽的位置。
水源要求
以自来水为水源的系统，要求进水压力要符合设备要求，进水管径不得小于规定尺寸。
(如果压力较低将导致系统不能正常运转。如果压力较高将可能导致系统漏水。)
需考虑进水的硬度，如硬度较高，需首先对进水进行软化处理。
以纯化水为水源的系统，要求进水的TDS值需小于20PPM。
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